溅射工艺参数对MgF2薄膜光学性质的影响

作者：张育潜; 傅莉mgf2薄膜溅射功率氩气流量光学性质

摘要：采用射频磁控溅射工艺,在紫外熔融石英衬底上制备了MgF2薄膜。通过改变溅射功率和氩气流量,研究了主要溅射工艺参数对薄膜结构和光学性质的影响规律。试验结果表明,选择合适的溅射功率和氩气流量可以提高MgF2薄膜的光学性质,有利于MgF2薄膜在紫外波段的应用。

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