退火气氛对铽掺杂氧化锌纳米薄膜发光性能的影响

作者：李亚男; 程晓丽; 霍丽华; 赵辉zno薄膜tb掺杂发光气氛

摘要：以Zn（Ac）2·2H2O和Tb4O7为原料，采用溶胶一凝胶、浸渍一提拉技术在单晶硅（100）衬底上制备了铽掺杂的氧化锌（ZnO：Tb）薄膜。分别在氮气和氢气气氛下对薄膜进行退火处理，并进行了XRD、IR、EDS和AFM表征，同时结合荧光光谱测试详细研究了退火气氛对薄膜发光性质的影响。结果表明，经氮气和氢气气氛处理的薄膜中，ZnO：Tb粒子均具有六方纤锌矿结构，且排列致密均匀，相应的ZnO：Tb粒径分别为59和45nm。经氮气气氛处理的ZnO薄膜，掺杂前后的发光情况变化显著，由485nm的蓝光发射移到382nm的紫外发射。用氢气进行退火处理时，掺杂前后薄膜的荧光光谱都由强的紫外发射和弱的蓝光发射组成，但掺杂后薄膜的紫外光发射减弱，蓝光发射增强。薄膜层数为3、Tb掺杂量为3．85mol％时，ZnO：Tb薄膜的荧光发射效果最佳。

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