作者：李生芳; 冯凯; 杨林; 孙春艳离子印迹聚合物表面印迹技术铯离子吸附性能
摘要：采用表面印迹技术,以Cs（Ⅰ）为模板,壳聚糖为功能单体,在介孔材料SBA-15表面进行氨基化、醛基化修饰,并以HCl为洗脱液,成功制备了铯离子表面印迹聚合物[Cs（Ⅰ）-IIP]。产物进行了FT-IR、EDS、XRD、SEM、TEM和N2吸附-脱附等表征。结果表明,Cs（Ⅰ）被成功引入材料中,且Cs（Ⅰ）-IIP仍保持着有序介孔结构。研究了Cs（Ⅰ）-IIP对溶液中Cs（Ⅰ）的吸附性能,在25℃,pH值=5-6,吸附平衡时间为1h,最大吸附量为36.19mg/g,高于非印迹聚合物（NIP）。吸附动力学较好的符合准二级动力学模型,吸附等温符合Langmuir模型。Cs（Ⅰ）-IIP对Cs（Ⅰ）/Li（Ⅰ）、Cs（Ⅰ）/Na（Ⅰ）、Cs（Ⅰ）/K（Ⅰ）、Cs（Ⅰ）/Rb（Ⅰ）、Cs（Ⅰ）/Sr（Ⅱ）的选择性系数分别为1.50,2.00,2.22,1.32,4.00,表明合成的Cs（Ⅰ）-IIP具有良好的吸附选择性。此外,经5次吸附-解吸实验后,Cs（Ⅰ）-IIP的吸附量没有明显的下降,表明该材料具有一定的循环利用性能。
注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社
