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基于四羟甲基甘脲前驱体的新型含氮富微孔活性炭制备及其性能研究

作者:黄凯兵; 杨秀文; 王智健; 姚异渊四羟甲基甘脲双电层电容器活化温度微孔比电容

摘要:以四羟甲基甘脲为碳前驱体,采用KOH活化法处理得到双电层电容器用多孔活性炭材料。考察了不同碳化、活化温度对活性炭比电容的影响。结果表明,在850℃碳化,650℃活化处理时其电容性能最好,SEM和比表面与孔径分布测试说明TA-850-650表面富集微孔;恒流充放电与循环伏安测试结果表明TA-850-650的比电容在电流密度为0.2A/g时可达527F/g。

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材料导报

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